imec, ASML EXE:5200 High-NA EUV 장비 도입

벨기에 반도체 연구기관 imec이 ASML의 High-NA EUV 노광 장비 EXE:5200 도입을 발표. 이 장비를 고도화된 공정 연구시설에 배치해 차세대 로직·메모리 공정의 연구 기반을 확대함.