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ASML·삼성전자, High-NA EUV·차세대 포토마스크 협력 확대
2026-09-08 화요일 · 올해
삼성전자와 ASML이 High-NA EUV 노광 기술 및 차세대 12인치 포토마스크 연구 협력 확대를 발표. 향후 D램 생산에 High-NA EUV를 활용하기 위한 준비와 신규 마스크 기술 개발을 추진하기로 함. 구체적인 양산 도입은 향후 계획으로 구분됨.
삼성전자와 ASML이 High-NA EUV 노광 기술 및 차세대 12인치 포토마스크 연구 협력 확대를 발표. 향후 D램 생산에 High-NA EUV를 활용하기 위한 준비와 신규 마스크 기술 개발을 추진하기로 함. 구체적인 양산 도입은 향후 계획으로 구분됨.
